Comprehensive study of metal-fluoride crystals issues with trench first hard mask back end architecture - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Comprehensive study of metal-fluoride crystals issues with trench first hard mask back end architecture

A. Lagha
  • Fonction : Auteur
L. Broussous
  • Fonction : Auteur
D. Pepper
  • Fonction : Auteur
C. Maurice
  • Fonction : Auteur
N. Cabuil
  • Fonction : Auteur
A. Le Gouil
  • Fonction : Auteur
C. Trouiller
  • Fonction : Auteur
A. Margain
  • Fonction : Auteur
R. Pantel
  • Fonction : Auteur
Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
C. Levy
  • Fonction : Auteur

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00461607

Soumis le : vendredi 5 mars 2010-10:16:18

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:30:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00461607 , version 1 (05-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461607 , version 1

Citer

A. Lagha, L. Broussous, D. Pepper, C. Maurice, N. Cabuil, et al.. Comprehensive study of metal-fluoride crystals issues with trench first hard mask back end architecture. Surface Preparation and Cleaning Conference, 2007, United States. ⟨hal-00461607⟩

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