Analysis of chamber wall coatings during the patterning of ultralow-k materials with a metal hard mask: Consequences on cleaning strategies - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2007

Analysis of chamber wall coatings during the patterning of ultralow-k materials with a metal hard mask: Consequences on cleaning strategies

T. Chevolleau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
T. David
  • Fonction : Auteur
N. Posseme
  • Fonction : Auteur
J. Torres
  • Fonction : Auteur
O. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

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https://hal.science/hal-00461587

Soumis le : vendredi 5 mars 2010-09:25:25

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Dates et versions

hal-00461587 , version 1 (05-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461587 , version 1

Citer

T. Chevolleau, Maxime Darnon, T. David, N. Posseme, J. Torres, et al.. Analysis of chamber wall coatings during the patterning of ultralow-k materials with a metal hard mask: Consequences on cleaning strategies. Journal of Vacuum Science and Technology, 2007, Vol 25, pp. 886-892. ⟨hal-00461587⟩

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