Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00442676
Soumis le : mardi 22 décembre 2009-11:28:53
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:52
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00442676 , version 1
Citer
Thomas Tillocher, Remi Dussart. Mechanisms and optimization in the cryogenic etching plasma process. Workshop on Silicon dry processing, Sep 2006, Aix-La-Chapelle, Germany. ⟨hal-00442676⟩
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