Effect of the residual stress on the determination through nanoindentation technique of the Young's modulus of W thin film deposit on Si02/Si substrate - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2006

Effect of the residual stress on the determination through nanoindentation technique of the Young's modulus of W thin film deposit on Si02/Si substrate

Domaines

Mécanique [physics.med-ph]

Christine Froidevaux  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00436720

Soumis le : vendredi 27 novembre 2009-16:15:18

Dernière modification le : jeudi 13 avril 2023-09:26:11

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Dates et versions

hal-00436720 , version 1 (27-11-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00436720 , version 1

Citer

Mounir Qasmi, Patrick Delobelle, Fabrice Richard, A. Bosseboeuf. Effect of the residual stress on the determination through nanoindentation technique of the Young's modulus of W thin film deposit on Si02/Si substrate. Surface and Coatings Technology, 2006, 200 (14-15), pp.4185-4194. ⟨hal-00436720⟩

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