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Communication Dans Un Congrès Année : 2006

Patterning of narrow SiOCH trenches using the late porogen removal process

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00400477

Soumis le : mardi 30 juin 2009-18:58:02

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00400477 , version 1 (30-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00400477 , version 1

Citer

T. Chevolleau, D. Eon, Maxime Darnon, T. David, L. Vallier, et al.. Patterning of narrow SiOCH trenches using the late porogen removal process. AVS, 53rd International AVS Symposium, 2006, san francisco, United States. ⟨hal-00400477⟩

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