Metallic versus Organic Hard Mask Strategies for Advanced Dielectric Trenches Patterning - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Metallic versus Organic Hard Mask Strategies for Advanced Dielectric Trenches Patterning

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00399993 , version 1 (29-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00399993 , version 1

Citer

T. Chevolleau, Maxime Darnon, T. David, D. Perret, J. Torres, et al.. Metallic versus Organic Hard Mask Strategies for Advanced Dielectric Trenches Patterning. Proceeding of DPS, Symposium on Dry Process, 2007, tokyo, Japan. ⟨hal-00399993⟩
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