Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00398855
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-09:14:46
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:22:08
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398855 , version 1
Citer
T. David, N. Possémé, T. Chevolleau, Maxime Darnon, O. Louveau, et al.. A Study of Plasma Treatments Limiting Metal Barrier Diffusion into Porous Low-k Materials. Proceeding of ADMETA, Advanced Metallization Asian Session, 2005, tokyo, Japan. ⟨hal-00398855⟩
57
Consultations
0
Téléchargements