Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397760
Soumis le : mardi 23 juin 2009-10:55:00
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:47
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397760 , version 1
Citer
L. Vallier, T. Chevolleau, O. Joubert, Maxime Darnon, D. Eon, et al.. Challenges of Plasma Processes for Advanced ULK Patterning. Materials for Advanced Metallization 2006 Conference (MAM 2006), 2006, grenoble, France. ⟨hal-00397760⟩
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