Side wall restoration of porous ultra low k dielectrics for sub-45 nm technology nodes - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2007

Side wall restoration of porous ultra low k dielectrics for sub-45 nm technology nodes

H. Chaabouni
  • Fonction : Auteur
L.L. Chapelon
  • Fonction : Auteur
M. Aimadeddine
  • Fonction : Auteur
J. Vitiello
  • Fonction : Auteur
A. Farcy
  • Fonction : Auteur
R. Delsol
  • Fonction : Auteur
P. Brun
D. Fossati
  • Fonction : Auteur
V. Arnal
  • Fonction : Auteur
T. Chevolleau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
O. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
J. Torres
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00397091

Soumis le : vendredi 19 juin 2009-15:11:51

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:23:40

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Dates et versions

hal-00397091 , version 1 (19-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397091 , version 1

Citer

H. Chaabouni, L.L. Chapelon, M. Aimadeddine, J. Vitiello, A. Farcy, et al.. Side wall restoration of porous ultra low k dielectrics for sub-45 nm technology nodes. Microelectronic Engineering, 2007, 84, pp.2595-2599. ⟨hal-00397091⟩

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