Impact of the etching gas on vertically oriented single wall and few walled carbon nanotubes by plasma enhanced chemical vapor deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2007

Impact of the etching gas on vertically oriented single wall and few walled carbon nanotubes by plasma enhanced chemical vapor deposition

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Richard BASCHERA  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00391948

Soumis le : vendredi 5 juin 2009-11:10:00

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

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Dates et versions

hal-00391948 , version 1 (05-06-2009)

Identifiants

Citer

A. Gohier, T.M. Minea, M. A. Djouadi, Agnès A. Granier. Impact of the etching gas on vertically oriented single wall and few walled carbon nanotubes by plasma enhanced chemical vapor deposition. Journal of Applied Physics, 2007, 101 (5), pp.054317. ⟨10.1063/1.2654647⟩. ⟨hal-00391948⟩

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