Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00391881
Soumis le : vendredi 5 juin 2009-10:20:08
Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-15:27:49
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00391881 , version 1
Citer
J. Coignus, R. Clerc, Cédric Leroux, G. Reimbold, G. Ghibaudo. Analytical Modeling of Tunneling Current through SiO2-HfO2 Stacks in MOS Structures. 15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Jun 2008, Berlin, France. ⟨hal-00391881⟩
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