Feasibility of Si Nanowire Integration: CVD Growth, Characterization and Comparison of Au vs PtSi Catalysts

T. Baron (1) , M. Gordon (1) , F. Dhalluin (1) , M. den Hertog (2) , P. Ferret (3) , P. Gentile (4) , C. Ternon (1, 5) , K. Aissou (1) , J.L. Rouviere (2)

1 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 LEMMA - Laboratoire d'Etude des Matériaux par Microscopie Avancée
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
4 SiNaps - Silicon Nanoelectronics Photonics and Structures
5 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

Domaines: Matière Condensée [cond-mat]; Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]; Micro et nanotechnologies/Microélectronique

T. Baron, M. Gordon, F. Dhalluin, M. den Hertog, P. Ferret, et al.. Feasibility of Si Nanowire Integration: CVD Growth, Characterization and Comparison of Au vs PtSi Catalysts. 2006 MRS Fall Meeting, 2006, Boston, United States. ⟨hal-00390626⟩