Communication Dans Un Congrès
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00385931
Soumis le : mercredi 20 mai 2009-14:10:42
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:17:35
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00385931 , version 1
Citer
M. Charpin, L. Pain, S. Tedesco, C. Gourgon, A. Andrei, et al.. Negative tone CAR resists for e-beam lithography : modification of chemical composition for R&D application (high resolution) or production application (high sensitivity). SPIE's 2002 Symposium on Microlithography, 2002, santa clara, United States. pp.vol 4690 1157-1170. ⟨hal-00385931⟩
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