Communication Dans Un Congrès
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00385807
Soumis le : mercredi 20 mai 2009-11:03:18
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:55
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00385807 , version 1
Citer
C. Gourgon, C. Perret, F. Lazzarino, J.H. Tortai, G. Micouin, et al.. The influence of residual solvent in polymers patterned by NanoImprint Lithography. Nanoimprint and Nanoprint Technology Conference,, 2002, San francisco, United States. ⟨hal-00385807⟩
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