High resolution hybrid lithography with negative tone chemically amplified resists - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Jap. J. Appl. Phys. Année : 2004

High resolution hybrid lithography with negative tone chemically amplified resists

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00385729

Soumis le : mercredi 20 mai 2009-08:57:20

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00385729 , version 1 (20-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00385729 , version 1

Citer

S. Landis, S. Pauliac, J. Saint Pol, C. Gourgon, M. Akita, et al.. High resolution hybrid lithography with negative tone chemically amplified resists. Jap. J. Appl. Phys., 2004, Vol. 43 ((6B)), pp.3974-3980. ⟨hal-00385729⟩

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