Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00385719
Soumis le : mercredi 20 mai 2009-08:36:56
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:22:52
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00385719 , version 1
Citer
C. Gourgon, C. Perret, G. Micouin. Electron Beam photoresists for nanoimprint lithography. Microelectronic Engineering, 2002, vol. 61-62, pp.385-392. ⟨hal-00385719⟩
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