Characterization of resist-trimming processes by quasi in-situ x-ray photoelectron spectroscopy - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2004

Characterization of resist-trimming processes by quasi in-situ x-ray photoelectron spectroscopy

E. Pargon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
O. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
S. Xu
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T. Lill
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Soumis le : jeudi 14 mai 2009-15:30:47

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Dates et versions

hal-00384173 , version 1 (14-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00384173 , version 1

Citer

E. Pargon, O. Joubert, S. Xu, T. Lill. Characterization of resist-trimming processes by quasi in-situ x-ray photoelectron spectroscopy. Journal of Vacuum Science and Technology, 2004, pp.B 22, 1869. ⟨hal-00384173⟩

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