Deposition and its characterizations of aluminium nitride thin film on Si(100) by RMPECVD - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Deposition and its characterizations of aluminium nitride thin film on Si(100) by RMPECVD

A.M. Wu
  • Fonction : Auteur
Pascal Tristant
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Christelle Dublanche-Tixier
Axe 2 : procédés de traitements de surface
H. Hidalgo
  • Fonction : Auteur
G.Q. Lin
  • Fonction : Auteur
C. Dong
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00366074

Soumis le : jeudi 5 mars 2009-16:19:34

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00366074 , version 1 (05-03-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00366074 , version 1

Citer

A.M. Wu, Pascal Tristant, Christelle Dublanche-Tixier, H. Hidalgo, G.Q. Lin, et al.. Deposition and its characterizations of aluminium nitride thin film on Si(100) by RMPECVD. MRS International Materials Research Conference, IMRC 2008, Jun 2008, Chongqing, China. ⟨hal-00366074⟩

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