Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00360388
Soumis le : mercredi 11 février 2009-10:21:47
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Citer
G. Raymond, Pascal Morin, Arnaud Devos, D.A. Hess, M. Braccini, et al.. Characterization of silicon nitride thin films used as stressor liners on CMOS FETs. 9th International Conference on Ultimate Integration of Silicon, ULIS 2008, 2008, Italy. pp.199-202, ⟨10.1109/ULIS.2008.4527173⟩. ⟨hal-00360388⟩
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