Synthesis of reversible metal-insulator VO2 thin films by PLD for application to RF microwave devices. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Synthesis of reversible metal-insulator VO2 thin films by PLD for application to RF microwave devices.

Mariana Georgescu
  • Fonction : Auteur
MINACOM
Corinne Champeaux
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
Frédéric Dumas-Bouchiat
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Alain Catherinot
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915830
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Julien Givernaud
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915829
MINACOM
Aurelian Crunteanu
MINACOM

Sophie Lebraud  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00358593

Soumis le : mardi 3 février 2009-17:53:51

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00358593 , version 1 (03-02-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00358593 , version 1

Citer

Mariana Georgescu, Corinne Champeaux, Frédéric Dumas-Bouchiat, Alain Catherinot, Julien Givernaud, et al.. Synthesis of reversible metal-insulator VO2 thin films by PLD for application to RF microwave devices.. The 3rd International Workshop on Advanced Ceramics (IWAC03), Nov 2008, Limoges, France. ⟨hal-00358593⟩

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