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Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Comparison between conventional reactive sputtering process and reactive gas pulsing process on the composition and the properties of iron oxynitride films

C. Petitjean
  • Fonction : Auteur
M. Grafoute
  • Fonction : Auteur
C. Rousselot
  • Fonction : Auteur
Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)
J. F. Pierson
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Nicolas Martin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00346480

Soumis le : jeudi 11 décembre 2008-16:23:16

Dernière modification le : jeudi 13 avril 2023-09:26:11

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00346480 , version 1 (11-12-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00346480 , version 1

Citer

C. Petitjean, M. Grafoute, C. Rousselot, J. F. Pierson. Comparison between conventional reactive sputtering process and reactive gas pulsing process on the composition and the properties of iron oxynitride films. 11th International Conference on Plasma, Surface Engineering (PSE 2008), Sep 2008, Germany. ⟨hal-00346480⟩

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