Influence of the oxidation temperature on the structure and the hardness of Cr2N-based films deposited by a hybrid magnetron sputtering-arc evaporation process - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Influence of the oxidation temperature on the structure and the hardness of Cr2N-based films deposited by a hybrid magnetron sputtering-arc evaporation process

V. Rachpech
  • Fonction : Auteur
J. Lintymer
  • Fonction : Auteur
J. F. Pierson
CV
Nicolas Martin
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 847925
Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)
J. von Stebut
  • Fonction : Auteur
Alain Billard

Domaines

Matériaux

Nicolas Martin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00346270

Soumis le : jeudi 11 décembre 2008-12:11:17

Dernière modification le : jeudi 13 avril 2023-09:26:11

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00346270 , version 1 (11-12-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00346270 , version 1

Citer

V. Rachpech, J. Lintymer, J. F. Pierson, Nicolas Martin, J. von Stebut, et al.. Influence of the oxidation temperature on the structure and the hardness of Cr2N-based films deposited by a hybrid magnetron sputtering-arc evaporation process. European Materials Research Symposium E-MRS 2007, May 2007, France. ⟨hal-00346270⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-FCOMTE UNIV-BM FEMTO-ST UNIV-BM-THESE
33 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More