Annealing effect in DC and RF sputtered ITO thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue European Physical Journal: Applied Physics Année : 2007

Annealing effect in DC and RF sputtered ITO thin films

L. Kerkache
  • Fonction : Auteur
A. Layadi
  • Fonction : Auteur
El Hadj Dogheche

Dates et versions

hal-00283062 , version 1 (29-05-2008)

Identifiants

Citer

L. Kerkache, A. Layadi, El Hadj Dogheche, Denis Remiens. Annealing effect in DC and RF sputtered ITO thin films. European Physical Journal: Applied Physics, 2007, 39, pp.1-5. ⟨10.1051/epjap:2007113⟩. ⟨hal-00283062⟩
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