Laser Damage Resistance of HfO2 Thin Films Deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Laser Damage Resistance of HfO2 Thin Films Deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering

Jeremie Capoulade
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832177
Institut FRESNEL
Laurent Gallais
Institut FRESNEL
CV
Jean-Yves Natoli
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832180
Institut FRESNEL
Mireille Commandre
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832173
Institut FRESNEL
Michel Cathelinaud
Institut FRESNEL
Cihan Koc
  • Fonction : Auteur
Michel Lequime
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832181
Institut FRESNEL

Domaines

Optique [physics.optics]

Laurent Gallais  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00243149

Soumis le : mercredi 6 février 2008-20:48:37

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:49

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00243149 , version 1 (06-02-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00243149 , version 1

Citer

Jeremie Capoulade, Laurent Gallais, Jean-Yves Natoli, Mireille Commandre, Michel Cathelinaud, et al.. Laser Damage Resistance of HfO2 Thin Films Deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering. Optical Interference Coatings (OIC) 2007, 2007, Tucson, United States. ⟨hal-00243149⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-AMU IF EC-MARSEILLE
33 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More