Laser damage resistance of Hafnia thin films deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied optics Année : 2008

Laser damage resistance of Hafnia thin films deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering

Laurent Gallais
Jeremie Capoulade
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832177
Mireille Commandre
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832173
Jean-Yves Natoli
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832180
Michel Cathelinaud
Cihan Koc
  • Fonction : Auteur
Michel Lequime
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832181
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00242619 , version 1 (06-02-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00242619 , version 1

Citer

Laurent Gallais, Jeremie Capoulade, Mireille Commandre, Jean-Yves Natoli, Michel Cathelinaud, et al.. Laser damage resistance of Hafnia thin films deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering. Applied optics, 2008, 47 (13), pp.C107-C113. ⟨hal-00242619⟩
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