Li-intercalation behaviour of vanadium oxide thin film prepared by thermal oxidation of vanadium metal - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Electrochimica Acta Année : 2006

Li-intercalation behaviour of vanadium oxide thin film prepared by thermal oxidation of vanadium metal

R. Lindström
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V. Maurice
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H. Groult
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Liquides Ioniques et Interfaces Chargées
L. Perrigaud
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Liquides Ioniques et Interfaces Chargées
S. Zanna
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C. Cohen
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P. Marcus

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Soumis le : mercredi 25 juillet 2007-10:03:53

Dernière modification le : vendredi 19 avril 2024-16:18:54

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Dates et versions

hal-00165178 , version 1 (25-07-2007)

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Citer

R. Lindström, V. Maurice, H. Groult, L. Perrigaud, S. Zanna, et al.. Li-intercalation behaviour of vanadium oxide thin film prepared by thermal oxidation of vanadium metal. Electrochimica Acta, 2006, pp.51 (2006) 5001-5011. ⟨10.1016/j.electacta.2006.01.049⟩. ⟨hal-00165178⟩

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