Article Dans Une Revue
Microelectronics Reliability
Année : 2007
Hélène Fremont : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00160207
Soumis le : jeudi 5 juillet 2007-11:09:21
Dernière modification le : mercredi 2 août 2023-16:40:25
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00160207 , version 1
Citer
Kisten Weide-Zaage, David Dalleau, Yves Danto, Hélène Frémont. Dynamic void formation in a DD-copper-structure with different metallization geometry. Microelectronics Reliability, 2007, 47 (2-3), pp.319-325. ⟨hal-00160207⟩
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