Lithium niobate thick films grown by RF sputtering : correlation between optical analysis and transmission electron microscopy observations - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Integrated Ferroelectrics Année : 2000

Lithium niobate thick films grown by RF sputtering : correlation between optical analysis and transmission electron microscopy observations

X. Lansiaux
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
El Hadj Dogheche
Denis Remiens

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https://hal.science/hal-00158553

Soumis le : vendredi 29 juin 2007-09:59:06

Dernière modification le : mercredi 10 avril 2024-17:06:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00158553 , version 1 (29-06-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00158553 , version 1

Citer

X. Lansiaux, El Hadj Dogheche, Denis Remiens. Lithium niobate thick films grown by RF sputtering : correlation between optical analysis and transmission electron microscopy observations. Integrated Ferroelectrics, 2000, 31, pp.105-116. ⟨hal-00158553⟩

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