Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2001
Collection IEMN : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00152461
Soumis le : jeudi 7 juin 2007-08:13:19
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00152461 , version 1
Citer
I. Roch, L. Buchaillot, X. Wallart, D. Collard. Silicon nitride as an effective protection against oxidation of a TiNi thin film in high temperature oxidizing air environment at atmospheric pressure. Journal of Vacuum Science and Technology, 2001, B19, pp.305-307. ⟨hal-00152461⟩
Collections
24
Consultations
0
Téléchargements