FinFET achievement : optimum e-beam lithography to etch dense silicon fins networks - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2004

FinFET achievement : optimum e-beam lithography to etch dense silicon fins networks

F. Fruleux
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
J. Penaud
  • Fonction : Auteur
Emmanuel Dubois
CV
G. Larrieu
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00140996

Soumis le : mercredi 11 avril 2007-10:44:49

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00140996 , version 1 (11-04-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00140996 , version 1

Citer

F. Fruleux, J. Penaud, Emmanuel Dubois, G. Larrieu. FinFET achievement : optimum e-beam lithography to etch dense silicon fins networks. MIGAS International Summer School on Advanced Microelectronics, MIGAS'04, 2004, Autrans, France. ⟨hal-00140996⟩

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