Article Dans Une Revue
Journal of Microscopy
Année : 2006
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https://hal.science/hal-00138660
Soumis le : mardi 27 mars 2007-10:23:02
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00138660 , version 1
Citer
A. Łaszcz, J. Katcki, J. Ratajczak, Xing Tang, Emmanuel Dubois. TEM characterisation of the erbium silicide formation process using a Pt/Er stack on the silicon-on-insulator substrate. Journal of Microscopy, 2006, 224, pp.38-41. ⟨hal-00138660⟩
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