Optimisation of HSQ e-beam lithography for the patterning of FinFET transistors - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2006

Optimisation of HSQ e-beam lithography for the patterning of FinFET transistors

F. Fruleux
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
J. Penaud
  • Fonction : Auteur
Emmanuel Dubois
CV
M. Francois
  • Fonction : Auteur
M. Muller
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00138652

Soumis le : mardi 27 mars 2007-10:22:57

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00138652 , version 1 (27-03-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00138652 , version 1

Citer

F. Fruleux, J. Penaud, Emmanuel Dubois, M. Francois, M. Muller. Optimisation of HSQ e-beam lithography for the patterning of FinFET transistors. Microelectronic Engineering, 2006, 83, pp.776-779. ⟨hal-00138652⟩

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