An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks

F. Fruleux
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
J. Penaud
  • Fonction : Auteur
Emmanuel Dubois
CV
M. Francois
  • Fonction : Auteur
M. Muller
  • Fonction : Auteur

Collection IEMN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00138401

Soumis le : lundi 26 mars 2007-11:04:55

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00138401 , version 1 (26-03-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00138401 , version 1

Citer

F. Fruleux, J. Penaud, Emmanuel Dubois, M. Francois, M. Muller. An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks. 2005, pp.A/PII.01. ⟨hal-00138401⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-VALENCIENNES IEMN UNIV-LILLE
9 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More