A nanofluidic electrospray source fabricated using focused ion beam etching - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

A nanofluidic electrospray source fabricated using focused ion beam etching

C. Descatoire
  • Fonction : Auteur
David Troadec
A. Ashcroft
  • Fonction : Auteur
L. Buchaillot
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
S. Arscott
CV

Collection IEMN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00130827

Soumis le : mercredi 14 février 2007-09:45:13

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00130827 , version 1 (14-02-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00130827 , version 1

Citer

C. Descatoire, David Troadec, A. Ashcroft, L. Buchaillot, S. Arscott. A nanofluidic electrospray source fabricated using focused ion beam etching. 2005, pp.241-244. ⟨hal-00130827⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-VALENCIENNES IEMN UNIV-LILLE
17 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More