Substrate influence on the growth of Co-doped LaO, 5TiO3-x epitaxial thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2005

Substrate influence on the growth of Co-doped LaO, 5TiO3-x epitaxial thin films

R. Ranchal
  • Fonction : Auteur
M. Bibes
CV
Agnès Barthelemy
  • Fonction : Auteur
K. Bouzehouane
  • Fonction : Auteur
S. Guyard
  • Fonction : Auteur
E. Jacquet
  • Fonction : Auteur
J.P. Contour
  • Fonction : Auteur
C. Pascanut
  • Fonction : Auteur
Nita Dragoe
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 836092
Laboratoire d'étude des matériaux hors équilibre
Patrick Berthet
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 836093
Laboratoire de Physico-Chimie de l'Etat Solide

Domaines

Matériaux

Francoise Nicol  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00108271

Soumis le : vendredi 20 octobre 2006-11:10:59

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:48

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00108271 , version 1 (20-10-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00108271 , version 1

Citer

R. Ranchal, M. Bibes, Agnès Barthelemy, K. Bouzehouane, S. Guyard, et al.. Substrate influence on the growth of Co-doped LaO, 5TiO3-x epitaxial thin films. Journal of Applied Physics, 2005, 98, pp.013514. ⟨hal-00108271⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-PARIS-SACLAY
26 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More