Substrate effect on the formation of ω-phase in sputtered zirconium films - Archive ouverte HAL

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Article Dans Une Revue Scripta Materialia Année : 2005

Substrate effect on the formation of ω-phase in sputtered zirconium films

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D. Pilloud

Fonction : Auteur
PersonId : 1215258
IdHAL : david-pilloud
ORCID : 0000-0002-0662-6173
IdRef : 095618201

Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)

J.F. Pierson

Fonction : Auteur
PersonId : 172352
IdHAL : jean-francois-pierson
ORCID : 0000-0001-8790-3162
IdRef : 135449499

Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)

C. Rousselot

Fonction : Auteur

Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)

F. Palmino

Fonction : Auteur

Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)

Domaines

Automates cellulaires et gaz sur réseau [nlin.CG] Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Christophe Rousselot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00105157

Soumis le : mardi 10 octobre 2006-14:40:14

Dernière modification le : jeudi 13 avril 2023-09:26:12

Dates et versions

hal-00105157 , version 1 (10-10-2006)

Identifiants

HAL Id : hal-00105157 , version 1
DOI : 10.1016/j.scriptamat.2005.07.011

Citer

D. Pilloud, J.F. Pierson, C. Rousselot, F. Palmino. Substrate effect on the formation of ω-phase in sputtered zirconium films. Scripta Materialia, 2005, 53, pp.1031-1036. ⟨10.1016/j.scriptamat.2005.07.011⟩. ⟨hal-00105157⟩

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