Thermal profile evaluation of a silicon wafer in a rapid thermal chemical vapour deposition apparatus, - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Optoelectronics and Advanced Materials Année : 2005

Thermal profile evaluation of a silicon wafer in a rapid thermal chemical vapour deposition apparatus,

Mihaela Girtan
Propriétés Optiques des Matériaux et Applications
CV
P.O. Logerais
  • Fonction : Auteur
L. Avril
  • Fonction : Auteur
A. Bouteville
  • Fonction : Auteur
F. Gonzatti
  • Fonction : Auteur

Marie-Thérèse Trumeau  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00078918

Soumis le : jeudi 8 juin 2006-10:37:59

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:47

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00078918 , version 1 (08-06-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00078918 , version 1

Citer

Mihaela Girtan, P.O. Logerais, L. Avril, A. Bouteville, F. Gonzatti. Thermal profile evaluation of a silicon wafer in a rapid thermal chemical vapour deposition apparatus,. Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, 2005, 7, pp.665. ⟨hal-00078918⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-ANGERS
14 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More