F Dopped SnO2 Thin Films Properties

Mihaela Girtan; A. Bouteville; M. Rusu; G.G. Rusu

Article Dans Une Revue Journal of Optoelectronics and Advanced Materials Année : 2006

F Dopped SnO2 Thin Films Properties

(1) , , ,

1

Mihaela Girtan

Fonction : Auteur
PersonId : 181566
IdHAL : mihaela-girtan
ORCID : 0000-0002-8058-4143
IdRef : 148910068

Propriétés Optiques des Matériaux et Applications

CV

A. Bouteville

Fonction : Auteur

M. Rusu

Fonction : Auteur

G.G. Rusu

Fonction : Auteur

Marie-Thérèse Trumeau : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00078903

Soumis le : jeudi 8 juin 2006-10:19:52

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:47

Dates et versions

hal-00078903 , version 1 (08-06-2006)

Identifiants

HAL Id : hal-00078903 , version 1

Citer

Mihaela Girtan, A. Bouteville, M. Rusu, G.G. Rusu. F Dopped SnO2 Thin Films Properties. Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, 2006, 8, pp.27-30. ⟨hal-00078903⟩

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