Influence of the Quartz Window in a Rapid Thermal Chemical Vapour Deposition Apparatus - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Optoelectronics and Advanced Materials Année : 2006

Influence of the Quartz Window in a Rapid Thermal Chemical Vapour Deposition Apparatus

P.O. Logerais
  • Fonction : Auteur
Mihaela Girtan
Propriétés Optiques des Matériaux et Applications
CV
A. Bouteville
  • Fonction : Auteur

Marie-Thérèse Trumeau  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00078899

Soumis le : jeudi 8 juin 2006-10:13:13

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:47

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00078899 , version 1 (08-06-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00078899 , version 1

Citer

P.O. Logerais, Mihaela Girtan, A. Bouteville. Influence of the Quartz Window in a Rapid Thermal Chemical Vapour Deposition Apparatus. Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, 2006, 8, pp.139-143. ⟨hal-00078899⟩

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