UV-DUV source based on IC-HCPCF filled with H2 - XLIM Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

UV-DUV source based on IC-HCPCF filled with H2

Résumé

We report on a compact multi-line Raman source with a spectrum spanning from 250nm to 750nm with spectral densities ranging from 0.2 to 4µW/nm between 250-300nm and 20 to 700 µW/nm for 300-350 nm.
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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-02331508 , version 1 (20-11-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02331508 , version 1

Citer

Matthieu Chafer, Benoît Beaudou, Jonas Osorio, Frédéric, Lucien Delahaye, Foued Amrani, et al.. UV-DUV source based on IC-HCPCF filled with H2. Advanced Solid State Lasers Conference (ASSL) 2019, Sep 2019, Vienne, Austria. pp.ATh4A.2. ⟨hal-02331508⟩
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