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Defect and Diffusion Forum 323-325 (2012) 387-391
Plasma assisted diffusion in porous materials: Experiments, modeling and applications
Pascal Brault 1, Jean-Marc Bauchire 1, Francois James 2, Christophe Josserand 3
(12/04/2012)

Plasma sputtering deposition of platinum on porous substrates is a relevant way for building high performance catalytic thin films. The knowledge and control of platinum density adsorbed in the porous medium, during deposition, are of primary importance. We show that the experimental concentration depth profiles originate from a superdiffusion phenomenon. Moreover experimental results are well described by a classical porous-fractal diffusion model, for which diffusion coefficient is also time-dependent, even if such a model does not include the proper physical mechanisms.
1 :  Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés (GREMI)
CNRS : UMR6606 – Université d'Orléans
2 :  Mathématiques - Analyse, Probabilités, Modélisation - Orléans (MAPMO)
Université d'Orléans – CNRS : UMR7349
3 :  Institut Jean Le Rond d'Alembert (IJLRA)
CNRS : UMR7190 – Université Pierre et Marie Curie [UPMC] - Paris VI
Sciences de l'ingénieur/Plasmas
Anomalous diffusion equation – plasma sputtering deposition – AAO template – porous carbon – random stacking – catalytic film – fuel cell
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