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Experimental Study of 2-D Electrochemicallydeposited Random Fractal Monopole Antennas Dumond C., Khelloufi M. Mk, Allam L. Progress In Electromagnetics Research C vol. 36 (2013) pp 119, 130 [hal-00796953 - version 1]

Large area silicon epitaxy using pulsed DC magnetron sputtering deposition Plantin P., Challali F., Carriot O., Lainat F., Ancilotti M., Gadot G., Brault P. Microelectronic Engineering 85 (2008) 636-639 [hal-00191122 - version 1]

On-chip thermal calibration with 8 CB liquid crystal of micro-thermal device Gillot F., Arata H. F., Guégan R., Morin F. O., Tanaka H., Fujita H. Lab on a Chip 7 (2007) 1600 [hal-00264795 - version 1]

Mécanismes physico-chimiques dans le procédé de gravure plasma du Silicium Mellhaoui X. Université d'Orléans (24/05/2006), Pierre RANSON (Dir.) [tel-00080722 - version 1]