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fulltext access Deposition of TiO2 thin films by atmospheric plasma post-discharge assisted injection MOCVD
Jimenez C., De Barros D., Darraz A., Deschanvres J. L., Rapenne L., Chaudouët P., Mendez J.E., Weiss F., Thomachot M., Sindzingre T. et al
Surface and Coatings Technology 201 (2008) 8971 [hal-00395626 - version 1]