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Procédé de gravure d'un matériau en présence de particules
Baillet F., Gondrexon N.
(28/03/2012) EP2433297 (A1) - [hal-00697692 - version 1]
Procédé de gravure d'un matériau en présence d'un gaz
Baillet F., Gondrexon N.
(28/03/2012) EP2432586 (A1) - [hal-00697690 - version 1]
Creuset froid pour four de chauffage à induction
Dumont M., Hasan G., Ernst R., Petitpas P., Garnier C.
(02/12/2011) B11368 FR - France [hal-00679557 - version 1]
Système inductif pouvant servir de creuset froid
Dumont M., Ernst R., Petitpas P., Garnier C.
(18/03/2011) B10748 FR - France [hal-00679558 - version 1]
Procédé de préparation de polycristaux et monocristaux d(oxyde de zinc sur un germe par sublimation activée chimiquement à haute température
Chichignoud G., Couchaud M., Santailler J.L.
(22/12/2010) EP 2262935 (A1) - France [hal-00697697 - version 1]
Procédé de préparation de polycristaux et monocristaux d(oxyde de zinc sur un germe par sublimation activée chimiquement à haute température
Chichignoud G., Couchaud M., Santailler J.L.
(27/08/2010) FR2929959 (B1) - France [hal-00697694 - version 1]
METHOD AND DEVICE FOR SELECTIVE ETCHING
Baillet F., Gondrexon N.
(04/08/2010) EP2212907 (A2) - France [hal-00527335 - version 1]
Alliages amorphe métalliques
Yavari A.R., Aljerf M., Georgarakis K.
(21/07/2010) FR10356022.3 - France [hal-00577741 - version 1]
PROCEDE ET DISPOSITIF DE GRAVURE SELECTIVE
Baillet F., Gondrexon N.
(11/06/2010) FR2923947 (B1) - France [hal-00527333 - version 1]
METHOD FOR REFINING THE GRAIN OF METALLIC COMPONENTS BY CONTROLLED STRAIN PATH CHANGE
De Almeida Gracio J.J., Rauch E.F., Barlat F., Yoon J.W., Vincze G.
(08/04/2010) WO2009144676 (A3) - France [hal-00527336 - version 1]
METHOD AND DEVICE FOR DRAINING LIQUID COATING METAL AT THE OUTPUT OF A TEMPERING METAL COATING TANK
Grenier B., Hardy J.J., Ernst R., Fautrelle Y.
(01/04/2010) WO2010034892 (A1) - France [hal-00527337 - version 1]
METHOD FOR PURIFYING SILICON FOR PHOTOVOLTAIC APPLICATIONS
Trassy C., Delannoy Y.
(26/03/2010) FR2928641 (B1) - France [hal-00527342 - version 1]
Materiau a architecture multicouche dedie a une mise en contact avec du silicium liquide
Garandet J.P., Camel D., Drevet B., Eustathopoulos N., Rana I.
(12/03/2010) FR2935636 - France [hal-00527341 - version 1]
Procede d'assembalge de pièces carbonees par brasage refractaire
Garandet J.P., Camel D., Drevet B., Eustathopoulos N., Rana I.
(12/03/2010) FR2935622 - France [hal-00527340 - version 1]
Process for forming a non-stick coating based on silicon carbide
Garandet J.P., Drevet B., Eustathopoulos N., Flahaut E., Pietri T.
(11/03/2010) WO2010026342 - France [hal-00527339 - version 1]
PROCEDE D'ASSEMBLAGE MOYENNEMENT REFRACTAIRE DE PIECES EN MATERIAUX A BASE DE SIC PAR BRASAGE NON REACTIF SOUS ATMOSPHERE OXYDANTE, COMPOSITIONS DE BRASURE, ET JOINT ET ASSEMBLAGE OBTENUS PAR CE PROCEDE.
Maillard O., Chaumat V., Hodaj F.
(05/03/2010) FR2923947 - France [hal-00527332 - version 1]
Device and method for producing self-sustained plates of silicon or other crystalline materials
Einhaus E., Lissalde F., Delannoy Y.
(16/12/2009) EP2132366 - France [hal-00527389 - version 1]
PROCEDE DE PREPARATION DE POLYCRISTAUX ET DE MONOCRISTAUX D'OXYDE DE ZINC (ZNO) SUR UN GERME PAR SUBLIMATION ACTIVEE CHIMIQUEMENT A HAUTE TEMPERATURE
Santailler J.L., Chichignoud G., Couchautd M.
(16/10/2009) FR2929959 (A1) - France [hal-00577737 - version 1]
PROCEDE DE CRISTALLOGENESE D'UN MATERIAU ELECTRIQUEMENT CONDUCTEUR A L'ETAT FONDU
Duffar T., Vian G.
(03/09/2009) WO2009106625 (A1) - France [hal-00528922 - version 1]
PROCEDE DE CRISTALLOGENESE D'UN MATERIAU ELECTRIQUEMENT CONDUCTEUR A L'ETAT FONDU
Duffar T., Vian G.
(28/08/2009) FR 2927910 (A1) - France [hal-00528920 - version 1]
STAINLESS STEEL SHEET COATED WITH A SELF-CLEANING COATING
Damasse J.M., Charles J., Langlet M., Permpoon S., Joud J.C., Baroux B.
(21/05/2009) US2009130410 (A1) - [hal-00402965 - version 1]
Join between a metal part and a ceramic part based SiC and/or C
Benoit J., Fromentin J.F., Chaumat V., Gillia O., Eustathopoulos N., Hodaj F., Koltsov A.
(17/12/2008) CN101326139 - France [hal-00388579 - version 1]
Device and method for producing self-sustained plates of silicon or other crystalline materials
Einhaus R., Lissalde F., Delannoy Y.
(06/11/2008) WO2008132323 (A2) - [hal-00388572 - version 1]
A new chill-zone Al alloys with high strength and good ductility
Georgarakis K., Le Moulec A., Li Y., Yavari A.R., Zhang T., Pang S.
(11/10/2008) 8235.5 - [hal-00369738 - version 1]
Assemblage entre une pièce métallique et une pièce en materiau céramique à base de SiC et/ou de C
Benoit J., Fromentin J.F., Chaumat V., Gillia O., Eustathopoulos N., Hodaj F., Koltsov A.
(24/09/2008) EP1971564 - France [hal-00388574 - version 1]
Dispositif et procédé de fabrication de plaques autosupportées de silicium ou autres matériaux cristallins
Einhaus R., Lissalde F., Delannoy Y.
(12/09/2008) FR2913434 (A1) - [hal-00369739 - version 1]
SILICON REFINING INSTALLATION
Trassy C., Delannoy Y., Fourmond E., Ndzogha C., Baluais G., Caratini Y.
(29/05/2008) US2008123715 (A1) - [hal-00386319 - version 1]
Silicon Refining Installation
Caratini Y., Delannoy Y., Fourmond E., Ndzogha C., Trassy C., Baluais G.
(29/05/2008) US20080123715A1 - [hal-00369740 - version 1]
Procédé de formation de sites catalytiques sur la surface d'un support
Baillet F., Pons M.
(06/05/2008) 7368297 6 - États-Unis [hal-00338493 - version 1]
Composition de brasure et procédé d'assemblage par brasage uitlisant cette composition
Benoit J., Fromentin J.F., Chaumat V., Gillia O., Eustathopoulos N., Hodaj F., Koltsov A.
(25/04/2008) FR2907448 - France [hal-00388576 - version 1]
Assemblage entre une pièce métallique et une pièce en materiau céramique à base de SiC et/ou de C
Benoit J., Fromentin J.F., Chaumat V., Gillia O., Eustathopoulos N., Hodaj F., Koltsov A.
(15/06/2007) FR2894499 - France [hal-00195795 - version 1]
SILICON REFINING INSTALLATION
Trassy C., Delannoy Y., Fourmond E., Ndzogha C., Baluais G., Caratini Y.
(21/02/2007) EP1753695 (A2) - [hal-00386318 - version 1]
Bulk metallic glass / metal composites and a method for their production
Gravier S., Puech S., Blandin J.J., Suéry M., Boutet G.
(20/02/2007) 60 / 890 635 - [hal-00203711 - version 1]
Procédé et dispositif de gravure réactive
Baillet F., Gondrexon N.
(15/09/2006) FR2923947 - [hal-00140319 - version 1]
SILICON REFINING INSTALLATION
Trassy C., Delannoy Y., Fourmond E., Ndzogha C., Baluais G., Caratini Y.
(09/12/2005) FR2871151 (A1) - [hal-00386317 - version 1]
FORMATION OF SINGLE-CRYSTAL SILICON CARBIDE
Madar R., Pons M., Baillet F., Charpentier L., Chaussende D., Pernot E., Turover D.
(24/11/2005) US2005257734 - [hal-00386316 - version 1]
FORMATION OF SINGLE-CRYSTAL SILICON CARBIDE
Madar R., Pons M., Baillet F., Charpentier L., Pernot E., Chaussende D., Turover D.
(09/03/2005) EP1511884 - [hal-00386315 - version 1]
Installation de traitement par induction d'un fluide faiblement conducteur
Ernst R., Trassy C., Proulx P., Xue S.
(14/01/2005) FR2857522 (A1) - [hal-00388571 - version 1]
Composite microresonateur has strong deformation (Machine Translation).
Brechet Y., Tripard A.
(01/07/2004) FR 2004-51398 - [hal-00369737 - version 1]