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Comparative study of IR and UV laser damage resistance of silica thin films deposited by electron beam deposition, ion plating, ion assisted deposition and dual ion beam sputtering Gallais L., Krol H., Capoulade J., Cathelinaud M., Roussel L. Luc.Roussel@fresnel.Fr, Albrand G., Natoli J.-Y., Commandre M., Lequime M., Amra C. Dans Proc. SPIE vol. 5963, Advances in Optical Thin Films II - (2005) [hal-00018294 - version 1]

Analyse sans contact de la topographie et des hétérogénéités à différentes échelles: techniques de diffusion lumineuse Deumie C., Destouches N., Giovannini H., Albrand G., Amra C. Colloque Mesures Optiques pour l'Industrie, France (2000) [hal-00082287 - version 1]