| HAL : hal-00711204, version 1 |
| DOI : 10.1049/mnl.2011.0653 |
| Fiche détaillée | Récupérer au format |
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| Micro & Nano Letters 7 (2012) 105-108 |
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| Bragg reflector formed on oxidized porous silicon |
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| Joël Charrier 1Parastesh Pirasteh 1 |
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| (2012) |
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| The manufacturing of a porous silicon Bragg reflector on P+ silicon substrate is investigated and the effects of oxidation on the Bragg reflector parameters is studied, notably the shift of the central wavelength after oxidation. This Letter shows how to anticipate the changes due to oxi- dation rather than to endure them. First, the variations in the refractive index and thickness after oxidation were studied. Then, from these measurements, an oxidised porous silicon Bragg |
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| 1 : | Fonctions Optiques pour les Technologies de l'informatiON (FOTON) |
| CNRS : UMR6082 – Université de Rennes 1 – Institut National des Sciences Appliquées (INSA) - Rennes – Ecole Nationale Supérieure des Sciences Appliquées et de Technologie (ENSSAT) – Institut Mines-Télécom – Télécom Bretagne – PRES Université Européenne de Bretagne [UEB] | |
| 2 : | Département Optique (OPTIQUE) |
| Institut Mines-Télécom – Télécom Bretagne – PRES Université Européenne de Bretagne [UEB] | |
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| Systèmes Photoniques Lasers & Télécoms Optique Guidée et Capteurs (OGC) |
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| Domaine | : | Sciences de l'ingénieur/Optique / photonique |
| hal-00711204, version 1 | |
| http://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00711204 | |
| oai:hal.archives-ouvertes.fr:hal-00711204 | |
| Contributeur : Dominque Bosc | |
| Soumis le : Vendredi 22 Juin 2012, 16:21:48 | |
| Dernière modification le : Mercredi 29 Août 2012, 11:36:20 | |