Faisceaux non-diffractants et accélérants. Applications à la micro et nanostructuration par laser femtoseconde - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Faisceaux non-diffractants et accélérants. Applications à la micro et nanostructuration par laser femtoseconde

Résumé

Lors des processus d'ablation par laser, le contrôle des profils des flancs d'ablation est un aspect important. Nous avons récemment développé une approche permettant de répondre à ce problème, à partir du contrôle de la direction de la lumière dans des faisceaux femtoseconde. Nous adressons des modes particuliers (stationnaires) de la filamentation dans les diélectriques afin de contrôler la répartition spatiale du dépôt d'énergie dans la matière. Des structures à haut rapport de forme et l'usinage direct de profils courbes seront présentés.
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Dates et versions

hal-00939304 , version 1 (30-01-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00939304 , version 1

Citer

François Courvoisier, Amaury Mathis, Chen Xie, Benjamin Wetzel, Jinggui Zhang, et al.. Faisceaux non-diffractants et accélérants. Applications à la micro et nanostructuration par laser femtoseconde. Journées Nationales des Cristaux pour l'Optique (JNCO) 2013, Jan 2013, France. pp.M5. ⟨hal-00939304⟩
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