On the structure and composition of nanoscale TiAlN/VN multilayers - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Philosophical Magazine Année : 2007

On the structure and composition of nanoscale TiAlN/VN multilayers

Uwe Falke
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 877555
Meiken Falke
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 877556
Andrew Bleloch
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 877557

Résumé

The chemical and physical structure of a TiAlN/VN multilayer, of average layer thickness 3.4±0.4 nm, was characterised using a spherical aberration corrected STEM, utilising a nominal 0.1nm beam, by HAADF and EELS. The interface between layers was shown to be rough, with local thickness variations evident in layer thickness. Chemical mixing between layers was identified, consistent with numerical modelling of the deposition flux and layer growth. The implications of the compositional modulation are discussed.

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Dates et versions

hal-00513784 , version 1 (01-09-2010)

Identifiants

Citer

Zhaoxia Zhou, Mark Rainforth, Uwe Falke, Meiken Falke, Andrew Bleloch, et al.. On the structure and composition of nanoscale TiAlN/VN multilayers. Philosophical Magazine, 2007, 87 (06), pp.967-978. ⟨10.1080/14786430601019433⟩. ⟨hal-00513784⟩

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