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| HAL : hal-00288425, version 1 |
| Fiche détaillée |  Récupérer au format |
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| JNMO'08 : 12èmes Journées Nano Micro et Optoélectronique, Saint-Pierre-d'Oléron : France (2008) |
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| Passivation de matériaux et composants III-V par plasma ECR d'azote |
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| Nacer Farih 1Marie-Paule Besland 1 |
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| (03/06/2008) |
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| 1 : | Institut des matériaux Jean Rouxel (IMN) |
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CNRS : UMR6502 – Université de Nantes |
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| 2 : | Institut des nanotechnologies de Lyon - Site d'Ecully (INL) |
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CNRS : UMR5270 – Université Claude Bernard - Lyon I – Institut National des Sciences Appliquées (INSA) - Lyon – Ecole Centrale de Lyon |
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| 3 : | Institut d'Electronique et de Télécommunications de Rennes (IETR) |
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CNRS : UMR6164 – Université de Rennes 1 – Institut National des Sciences Appliquées (INSA) - Rennes – SUPELEC |
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| 4 : | Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications (CRHEA) |
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CNRS : UPR10 – Université Nice Sophia Antipolis [UNS] |
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| Capteurs intégrés (CI) |
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| Domaine | : | Sciences de l'ingénieur/Micro et nanotechnologies/Microélectronique |
| hal-00288425, version 1 | |
| http://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00288425 | |
| oai:hal.archives-ouvertes.fr:hal-00288425 | |
| Contributeur : Hervé Lhermite | |
| Soumis le : Lundi 16 Juin 2008, 18:04:06 | |
| Dernière modification le : Vendredi 29 Mars 2013, 18:07:27 | |
