Passivation de matériaux et composants III-V par plasma ECR d'azote

Nacer Farih (1) , Marie-Paule Besland (1) , Antoine Goullet (1) , Mario El Kazzi (2) , Philippe Regreny (2) , Guy Hollinger (2) , Hervé Lhermite (3) , Aude Le Cotonnec (4) , Sébastien Chenot (4) , Nicolas Baron (4) , Yvon Cordier (4)

1 IMN - Institut des Matériaux Jean Rouxel
2 INL - H&N - INL - Hétéroepitaxie et Nanostructures
3 IETR - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique
4 CRHEA - Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Nacer Farih, Marie-Paule Besland, Antoine Goullet, Mario El Kazzi, Philippe Regreny, et al.. Passivation de matériaux et composants III-V par plasma ECR d'azote. JNMO'08 : 12èmes Journées Nano Micro et Optoélectronique, Jun 2008, Saint-Pierre-d'Oléron, France. ⟨hal-00288425⟩