Phénomènes de constriction thermique durant le procédé de dépôt par projection plasma

N. Laraqi (1) , Mohammed El Ganaoui (2)

1 LTIE - Laboratoire de Thermique Interfaces Environnement
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface

Les densités de flux mises en jeu lors de la réalisation de dépôts par projection thermique culminent à quelques centaines de W/mm2. La durée de l'étalement des gouttes est extrêmement faible, de l'ordre de la s. Les phénomènes interfaciaux de constriction thermique dépôt/substrat jouent un rôle extrêmement important puisqu'ils contrôlent le refroidissement du dépôt par le substrat et conditionnent de ce fait le comportement thermomécanique du dépôt. Nous présentons dans ce travail une approche analytique destinée au calcul de la résistance thermique de constriction durant l'étalement d'une goutte projetée sur un substrat et étudions l'effet de la vitesse sur ce phénomène

Domaines: Génie des procédés

N. Laraqi, Mohammed El Ganaoui. Phénomènes de constriction thermique durant le procédé de dépôt par projection plasma. Congrès Français de Thermique, Jun 2008, Toulouse, France. pp.71-76. ⟨hal-00287926⟩